硅片清洗剂一般用于去除硅片表面的各种污垢，效果十分显著。那大家真的了解硅片清洗剂吗？今天小编就来给大家介绍一下有关硅片清洗剂的一些知识。
希尔硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，能有效提高外延或扩散工序的成品率。
希尔硅片清洗剂一般是透明或者微黄色的液体产品，PH值一般在7——9之间。
希尔硅片清洗剂可应用领域：用于半导体硅片器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
希尔硅片清洗剂使用时按比例稀释成工作液后，加热至50-60度，恒温浸泡5-10分钟，或超声波清洗2-3分钟。对于重污垢工件，延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
在使用时要注意的是：1.定期检查槽液温度、液位，及时补水及相应比例补加原液。2、按规定时间定期更换槽液。
以上就是一些有关硅片清洗剂的知识，希望能够帮助大家更好的使用硅片清洗剂。