简要描述：光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板

简要描述：光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。

产品型号：M-150和P-150

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。M系列是用于光刻的掩模对准器。M-150专为6英寸晶圆设计，具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线光源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。P-150专为6英寸晶圆设计，具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。