由于市场需求疲弱，早前台积电传来的消息也显示很多大客户都取消/减少订单，特别是先进制程的部分。 早前有分析师预测台积电 7nm、6nm 制程利用率于 2023 Q1 将下跌至 40% 区间，5nm、改良版 4nm 制程亦仅有 70-80% 利用率。不过先进制程需求虽大幅下降，反而成熟制程则相当稳定，如 40nm、28nm 及 22nm 等制程，此些成熟制程已经量产 10至 15 年以上。 虽这些成熟制程不可能再用于生产手机、PC 及服务器等高效能处理器，但是来自汽车市场的需求
据外媒报导，中国的半导体企业已改为专注采用 DUV 曝光技术的生产技术发展，而主因是中国企业受制国际禁令，不能购入最先进的 EUV 光刻机。据“中国经济日报”的消息指，因已确认 DUV 设备不受美国禁令影响，中国的半导体龙头中芯国际已决定，将与光刻设备厂商 ASML 的合约延长至 2022 年，并增加 DUV 设备的进口。 EUV 光刻机主要可生产 10nm 或更先进制程，而 DUV 光刻机则用作生产现时的成熟制程所使用的，主要生产汽车电源管理芯片 (PMIC) 和微控制器 (