光刻胶

MicroChem光刻胶的主要技术指标都有哪些？ MicroChem光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。 MicroChem光刻胶应用范围：广泛应用于集成电路，封装，微机电系统，光电子器件光子器件，平板显示器，太阳能光伏等领域。 区别硅片表面相邻图形特征的能力

集微网消息，3月17日，久日新材在互动平台表示，子公司久日半导体已完成多款i-线半导体光刻胶配方的研发，测试性能指标完全可与国内市场同类进口产品媲美，现正在进行重点客户的送样验证工作和中试生产线建设。 截至目前，公司的光刻胶专用光敏剂PAC已向七家下游企业完成送样。公司光刻胶专用光敏剂PAC的生产规模为年产600吨

韩媒报道，全球第一光刻胶大厂日本JSR计划将在韩国青州建立一条生产用于ArF的光刻胶产线，用于供货三星电子。 日本JSR公司是全球最大的光刻胶生产厂商，占全球市场24%份额。由于日本的出口管制政策，韩国半导体产业，特别是三星电子在努力推动半导体原材料的本地化及供应量的多样性、稳定性，JSR自然不愿失去这一巨大的市场，因此推动在韩国本地建立产线，规避出口限令

电子信息产业的更新换代速度不断加快，新技术、新工艺不断涌现，对光刻胶的需求不论是品种还是数量都大大增多。日本是光刻胶生产和应用最多的国家。根据日本富士经济株式会社的统计1，2011年全球光刻胶市场规模为4736.40亿日元

光刻胶的选择是一个复杂的过程。主要的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG胶首先须具有产生那些所要求尺寸的能力