随着半导体产业的快速发展，“化合物半导体”的新兴应用和未来趋势，是近年业界最热门的议题之一，以碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN)为主的第三代半导体应用逐渐落地。除此之外，拥有“第四代半导体”之称的新一代超宽能隙材料氧化镓(Ga2O3)和钻石等新一代材料，将成为下一波瞩目焦点。
本次将邀请产学界专家，针对碳化硅长晶技术、氮化镓(GaN)制程技术与设备发展及第四代半导体氧化镓(Ga2O3)的应用领域，从不同角度剖析进行经验分享，共同探讨新技术所带来的变革与市场机会。
期盼能借由本次研讨会加速推进国内厂商有更多交流合作，为产业打造一个交流合作平台，以促进国内业者掌握产业趋势及未来商机。