上海伯东代理超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 广泛应用于半导体 纳米科技 太阳能电池科研等行业 氧化物 氮化物和金属材料的研究等.
超高真空环境的特征为其真空压力低于 10-8 至 10-12托 超高真空环境对于科学研究非常重要 因实验通常要求在整个过程中 表面应保持无污染状态并可使用较低能量的电子和离子的实验技术使用 而不会受到气相散射的干扰并可以在这样超高真空环境下使用溅镀系统以提供高质量的薄膜.
上海伯东代理超高真空磁控溅镀设备针对超高真空和高温加热设计的基板旋转镀膜机构 使用陶瓷培林旋转 并在内部做水冷 来保护机构以确保长时间运转的稳定.
腔体为使用金属密封圈并可烘烤至 150 oC