南科管理局表示，本次通过核准入区投资之申请案说明如下：方均科技公司申请于南科台南园区投资设立，投资金额为新台币0.5亿元，提供功能性奈米镀膜服务，及客制化奈米镀膜化学气相沉积设备之开发，产品主要应用于半导体及光电产业；方均科技为工研院衍生新创公司，于工研院15年来累积奈米镀膜制程设备技术，并掌握耐高电压与高操作温度之Low-K先进镀膜材料-八氟[22]二聚对二甲苯(Parylene-AF4)，整合硬件设备、软件程式、材料应用及制程，提供完整技术解决方案，除可精准控制镀膜厚度、减少制程时间外，还能达到良好均匀性及重现性，已成功切入国内大型面板厂及国内外半导体厂，未来进驻南科台南园区后，可就近服务园区厂商，将有助于提升园区产业竞争力。