椭圆偏振技术（Ellipsometry）是一种多功能和强大的光学技术，可用以取得薄膜的介电性质（复数折射率或介电常数）。已被应用在许多不同的领域，从基础研究到工业应用，如半导体物理研究、微电子学和生物学。椭圆偏振是一个很敏感的薄膜性质测量技术，且具有非破坏性和非接触的优点。此技术基于测量光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电函数来决定。虽然光学技术受制于先天衍射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位信息及光偏振状态的改变，来取得埃等级的分辨率。此技术可适用于厚度小于1 ns到~ μm薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确界面、光学均匀、等向性且非吸收光的膜层构成。