cvd

一般国内所说的表面处理有两种说明，一种是广义的表面处理，包括前处理、电镀、涂装、化学氧化、热喷涂等多种物理化学方法的技术方法，另一种是狭义的表面处理，即喷砂、研磨等。 表面处理是在基材表面人工形成与基材机械、物理和化学性能不同的表层的技术方法。表面处理的目的是满足产品的耐腐蚀性、耐磨性、装饰性和其他特殊功能要求

说起真空镀膜加工，不涉足这个行业的人还真心陌生的紧。其实，我们生活中处处能接触到真空镀膜产品，衣服包包上的金属配饰、各种颜色的金属手表、电子手环、手机、耳机、吃饭使用的餐叉、门把手、出行的汽车、飞机等等，遍布我们衣食住行方方面面。 为什么真空镀膜加工在我们的生活中运用的如此普遍呢？这得益于真空镀膜沉积的膜层能使材料具有新的、良好的物理和化学性能

简要描述：双温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。 CVD管式炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。 1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点; 2、电热元件采用进口高电阻合金丝，表面负荷高，发热速度快; 3、炉体两端采用铰链结构的不锈钢密封法兰，方便操作、耐高温、耐腐蚀; 4、保护管采用高纯石英管、耐温1150℃; 5、加热区长度达400mm温场更均匀; 6、左右两端采用气动支撑杆，方便上炉体的开启; 7、密封性好，配合扩散泵或分子泵，炉子真空度可达10-3pa; 8、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度; 9、炉体整体安装四个万向轮，方便整体移动; 10、采用程序控温系统可编辑30段程序控温，控温精度±1℃，移相触发、可控硅控制;

1、一分为二：材料不同、设备不同、工艺参数不同，热处理后的组织和质量也不同。即使材料牌号、设备、工艺参数都相同，由于化学成分含量上下限、热处理温度上下限、保温时间上下限不同，热处理后的组织和质量也会不同。即使化学成分含量上下限、热处理温度上下限、保温时间上下限都相同，由于热处理前期的冷热加工的工艺、质量、组织等不同，热处理后的组织和质量也同样会不同

真空镀膜机行业英文相关术语，您知多少？很多工作人员英语基础薄弱，工作期间经常被英文难倒，悔不当初上学时，没好好学习英语。汇成真空小编为大家收集了一部分，希望对大家有所帮助： 46、真空; 真空度稀薄的; 真空真空度真空吸尘器稀薄的 vacuum PVD真空镀膜机和CVD镀膜机区别? 广东汇成真空科技股份有限公司是一家以真空镀膜设备研发、生产、销售及其技术服务为主的真空应用解决方案供应商，主要产品为真空镀膜设备以及配套的工艺服务支持。经过多年技术发展和经验积累，具备了完整的真空镀膜设备研发、制造能力以及镀膜工艺开发能力，为不同行业客户提供定制化、专业化的真空镀膜设备及其工艺解决方案

光纤这名字已经是家喻户晓，其作用是无处不在，现在不仅是电话电讯用光纤，高清晰电视传送也用光纤，计算机联网也是光纤，—根光缆可做多种用途，对现代信息社会作出了巨大的贡献。我国光缆实际敷设量已达120—150万公里，1998年生产光纤250万公里，光纤通信市场每年以20％速度递增，光纤通讯产品的销售额约为200亿元/年左右。 现在HDMI接口已经推出了光纤连接线，产品代表HDMI 光纤线，USB3.0光纤线等等这些

钟表机芯真空等离子清洗 机芯表面氧化清洗机 手表配件表面等离子清洗设备广泛应用于电子工业：PCB、FPC电路板，LCD、LCM行业LED光伏照明业SMT、BGA连接器行业COG、COB、COF、ACF工艺;电子、光学、核电、钟表、机械五金、轴承等行业等加工零件的精密清洗；IC半导体（蓝宝石、外延片、硅片）封装行业化纤及纺织工业等。 钟表机芯真空等离子清洗 机芯表面氧化清洗机 手表配件表面等离子清洗设备对表面进行预处理，可以确保各类材料均可实现zui大程度的表面活化。生产时不产生有害物质，可以确保具有可靠的附着性能，而且无需使用溶剂

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm/440mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。【产品名称】1700℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。1200℃-CVD梯度管式炉 【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料

1. 综述当前石墨烯产业化制备技术。 2. 总结石墨烯产业化制备过程中存在的问题。 3. 提出“标号”石墨烯的概念和石墨烯“杀手锏”级别应用

氢氧燃料电池配套氢气发生器 凭借着在气体分析、生成和校准领域拥有三十年的经验，使我们能够成立Leman Instruments SAS，这是一家专门从事固体、液体和气体分析所涉及的科学设备模块研发，生产和销售的公司。公司主要生产地位于法国阿尔尚地区。主要产品包括实验室氮气发生器，氢气发生器，氧气发生器，零级空气发生器等