在过去这几年，因为对电子、光电、生医元件尺寸缩小的需求增加，所以奈米微影技术被大量重视；在各种微影技术中，奈米压印微影技术是最受欢迎的，它被认为是可大量生产、低成本、快速制程的技术，并可使奈米图形完美的翻印在基板上。但是奈米压印微影技术的母板是用电子束显影技术制造，而此制作过程有点复杂；故我们在此研究中提出一个新型微影技术”奈米投影曝光显影技术”，此技术利用聚二甲基硅氧烷基板表面可自主装形成干涉基板，来制造明确尺寸的奈米长条状结构。
首先，简易地在弹性透明聚二甲基硅氧烷基板作出自主装形成并可调变的奈米波浪结构，而此结构可作为奈米投影曝光显影技术的平涉模板，然后再借由此技术可制造出所需奈米结构大小或特定光频的表面电浆奈米栅栏。然而，此简易、便宜、快速的奈米投影曝光显影技术可实用至大面积的表面电浆奈米元件制作，其相关波长范围可从近红外光至可见光波段，所相关应用的元件则包括光学感测器、光学耦合器、滤光器…等。