彩色TFT-LCD平面显示器亮度不足及背光源耗电高一直是令人垢病的严重问题,所以近年来画素开口率的改善是非常令人重视要的课题。许多公司亦纷纷开发新的材料,期望能使TFT-LCD的开口率向上提升,达成高亮度、低耗电之目的。目前各相关研究皆由低介电常数之材料着手,致使ITO膜能借由此材料而跨在TFT基材之上,拥有比传统式TFT-LCD更大区域的ITO面基、更高的开口率。因此期望能借由结合低介电常数材料和感光材料之经验,研究开发更实用之TFT LCD用感光介电光阻材料。

显影特性及低介电性质是本光阻材料的发展重点,材料中使用经过设计的多功能性压克力树脂,使光阻具有5微米以下的分辨率,并有低介电的特性。

目前市面上的TFT-LCD皆有透光率太低的困扰,为了降低TFT LCD制作成本及提高其透光开口率,本计划将开发一种可直接涂布于TFT基板上的低介电平坦光阻材料,不但可作为保护TFT的介电平坦层,更可提高TFT LCD的透光开口率。